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我所完成国内首次“深地”集成电路软错误试验部署

  • 2022-08-29
  • 来源:重点实验室
  • 供稿人:张战刚
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近日,我所重点实验室科研人员在世界最深实验室——中国锦屏地下实验室(CJPL)一期,成功完成了先进工艺存储器软错误试验部署。该试验致力于用直接测量的方法,得到封装α粒子诱发的软错误“标尺数据”,对行业具有重要意义。

中国锦屏地下实验室是我国首个极深地下实验室,由清华大学与雅砻江流域水电开发有限公司共同建设,垂直岩石覆盖达2400米,是世界岩石覆盖最深的实验室。

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在大气环境中,集成电路软错误主要由封装α粒子和大气中子诱发。随着集成电路工艺的持续发展,受集成度增大、供电电压降低、节点电容减小等因素的影响,先进工艺集成电路的软错误成为应用可靠性的关键威胁。航空、汽车、电网、通讯等行业高度关注软错误影响及防护。由于封装α粒子和大气中子诱发的软错误特征相似,故难以直接判断诱因是α粒子还是大气中子,给针对性防护、试验方法标定带来困难。在极低宇宙线辐射本底的“深地”开展长期测量试验,可有效避免大气中子的干扰,是获得封装α粒子软错误率“标尺数据”的唯一手段。

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